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磁控濺射20吋中試線代加工/磁控濺射中試線基本參數(shù)基片較大尺寸：356mm × 406mm濺射室極限真空：排氣性能：基片加熱：較高溫度400℃，均勻性±5%以內濺射陰極：平面陰極3條 500mm(H)×125mm(L)×9mm(T)?旋轉陰極2對 500mm(H)×133mm(ID)濺射電源：直流電源（10kW），中頻電源（10kW）磁控濺射中試線用途金屬膜代加工，工藝授權（各種顏色可調金屬/非金屬膜；衣服，燈，空調等顏色可
2017-09-07 面議/平方米
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