203晶體清洗劑用 途:1、適用于石英晶片研磨后清洗、晶片鍍膜前清洗 ;2、替代產(chǎn)品:HCL+H2O2、 日本"201"清洗劑;3、環(huán)保要求:對(duì)人體無害，可生物降解，易漂洗4、超聲波1：50-100倍使用。 203晶體清洗劑 用 途:1、適用于石英晶片研磨后清洗、晶片鍍膜前清洗 ;2、替代產(chǎn)品:HCL+H2O2、 日本"201"清洗劑;3、環(huán)保要求:對(duì)人體無害，可生物降解，易漂洗4、超聲波1：50-100倍使用。

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