產(chǎn)品信息 名稱： 金靶材/Au Target 純度99.99% 由于該金屬價(jià)格變動(dòng)較大，請(qǐng)咨詢客服，僅當(dāng)日?qǐng)?bào)價(jià)有效 尺寸： φ50.8*3，φ76.2*3等 品牌：金源新材 優(yōu)勢(shì)：純度高，導(dǎo)電性能好 用途：磁控濺射鍍膜 工藝：熔煉 包裝：真空包裝 交貨期：7天 運(yùn)輸：順豐快遞 起訂量：1片 產(chǎn)品制作工藝 北京金源新材新材提供的金屬靶材按照生產(chǎn)工藝分為熔煉鑄造法和粉末冶金法兩種： 金屬靶材如鋁、銅、鐵、鎳等均采用熔煉鑄造工藝，以高純金屬為原料，通過(guò)熔煉、鍛造、熱處理和機(jī)械加工而成；產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：純度高，晶粒尺寸小而均勻，表面平整。 難熔金屬靶材如鎢、鉬、鉭、鈮、鉻等均采用粉末冶金工藝，以高純超細(xì)粉末為原料，通過(guò)熱等靜壓等工藝加工成坯，軋制熱處理，加工后制成靶材；產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：靶材孔隙率低，相對(duì)密度高，結(jié)構(gòu)均勻。

公司簡(jiǎn)介 Company Introduction北京金源新材科技有限公司是一家以研發(fā)、生產(chǎn)、銷售各類高 新材料為主的企業(yè)，公司在新材料行業(yè)技術(shù)先進(jìn)，注重技術(shù)創(chuàng)新，公司秉承“誠(chéng)信 務(wù)實(shí)，追求卓越”的企業(yè)精神，以“服務(wù)于 PVD 鍍膜材料”為宗旨。 主要產(chǎn)品包括高純金屬材料、磁控濺射靶材、真空蒸發(fā)鍍膜材料、 稀土材料等，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于航空航天、太陽(yáng)能光伏企業(yè)、光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體集成 電路、平板顯示、記錄介質(zhì)、表面涂層等領(lǐng)域。銷售部:13520577626/15210523788 QQ:2324865248 郵箱: sales@ginsrc.com

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